Tantál Target

A tantál céltárgyak olyan jellemzőkkel rendelkeznek, mint a nagy tisztaság, a sűrű szerkezet és a jó porlasztási stabilitás, amelyek stabil teljesítményt mutatnak nagy vákuum- és plazmakörnyezetben. A tantál céltárgyakból kialakított vékony filmek erős adhéziót, jó egyenletességet és nagy kémiai stabilitást mutatnak, így széles körben használják vékonyréteg-lerakódási területeken, például félvezetőkben, integrált áramkörökben, kijelzőpanelekben és optikai bevonatokban.

A termék bemutatása

Tantál célpontunk

Dimenzió	Átmérő 50-400mm X Vastagság 3-28mm
Fokozat	R05200 R05400 R05252 (Ta-2,5W) R05255 (Ta-10W)
Tisztaság	99,95% vagy annál nagyobb (maximum 99,99%)
Újrakristályosítás	minimum 95%
Szemcseméret	Minimum 40um
Felületi érdesség	Maximum Ra0.4
Laposság	0,1 mm vagy maximum 0,10%
Tolerancia	Átmérő +/-0,254 mm

Gyártási folyamat – Elektronsugaras vákuumolvasztás

Az elektronsugaras vákuumolvasztást (EB) alkalmazzuk a tantál bugák magolvasztási eljárásaként.

A folyamat előnyei:

● Az ultra-nagy vákuumú környezet minimálisra csökkenti a gázszennyeződést

● Kiváló oxigén-, nitrogén-, hidrogén- és fémes szennyeződések eltávolítása

● Nagyon egységes mikrostruktúra és kémiai összetétel

● Fokozott korrózióállóság és élettartam

● Kiváló konzisztencia a tételek között

Ez a folyamat különösen kritikus az olyan alkalmazásoknál, amelyek nagy tisztaságot,{0}}hosszú távú stabilitást és rendkívüli korrózióállóságot igényelnek.